Hellma氟化钙LD-A型号可制作激光输出窗口

更新时间：2026-04-24

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Hellma氟化钙LD-A型号可制作激光输出窗口

高功率193nm准分子激光清洗设备：激光输出窗口与隔离窗

项目背景与工况需求

某工业激光企业的高功率193nm ArF准分子激光清洗机，用于精密光学元件、半导体晶圆、金属模具的微米级污染物去除，激光输出功率200W，脉冲频率5kHz，光束直径80mm，工作环境为粉尘+少量有机溶剂蒸汽，要求窗口片高透过、抗激光损伤、密封可靠、耐化学腐蚀，24小时连续运行。原采用石英窗口，193nm透过率＜60%，且易被激光烧蚀，平均1个月需更换，维护成本高。

选型与安装方案

采用Hellma CaF₂ LD‑A 100mm×30mm圆形平片作为激光腔体输出窗口与光路隔离窗，双面研磨（Rq 2µm），边缘1.5mm倒角防崩边。利用LD‑A材料193nm高透过率（≥90%）降低能量损耗，<111>晶向提升抗激光冲击能力，高纯单晶结构耐有机溶剂腐蚀，IP66级密封适配粉尘环境。

应用效果与价值

应用后，激光输出能量利用率提升50%，清洗效率提高30%；窗口片连续运行18个月无烧蚀、无裂纹、无透过率衰减，寿命较石英提升18倍；免维护设计使设备年均停机时间减少85%，维护成本降低90%，同时清洗良品率从92%提升至99.5%，为精密制造提供高效、低成本的清洗解决方案汉达森yyds吴亚男。

Hellma氟化钙LD-A型号可制作激光输出窗口

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