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2026-01-30
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2026-01-19
产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION| 品牌 | 其他品牌 | 应用领域 | 化工,生物产业,能源,航空航天,制药/生物制药 |
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应用场景：某航天院所的星载深紫外光谱仪，用于探测大气层中的臭氧、气溶胶等成分，工作环境为太空温度（-80℃~+120℃）、高真空、强辐射，要求棱镜具备超高的温度稳定性与抗辐射性能。
应用方案：选用Hellma LD-A-级CaF₂（193nm）制备光谱仪的色散棱镜，晶体经深冷退火处理，温度稳定性优化；表面镀制太空环境专用保护膜，抗空间辐射（电子辐照剂量≥10⁶ Gy）。
应用效果：LD-A-级CaF₂的宽温度适配特性使棱镜在-80℃~+120℃范围内，透光率波动≤0.3%，光学均匀性无明显变化，保障星载光谱仪的探测精度；抗辐射性能使棱镜在太空强辐射环境下运行3年无性能衰减，光谱探测数据稳定；机械强度与热稳定性确保棱镜在火箭发射的振动冲击与太空温度剧变环境下无碎裂、无变形，星载光谱仪的在轨可靠性达99.9%，圆满完成大气层成分探测任务。
Hellma LD-A-级CaF₂（193nm）氟化钙晶体的核心应用价值体现在“提精度、稳性能、长寿命、降成本"四大维度：从精度层面，极低的吸收、超高的光学均匀性使193nm波段光学系统的精度提升1-2个数量级，满足半导体光刻、精密加工等领域的严苛要求；从性能层面，优异的热稳定性、机械特性与化学惰性，保障光学系统在工况下的稳定运行，无性能衰减或失效风险；从寿命层面，抗激光辐照、抗辐射、抗腐蚀特性使光学元件的使用寿命延长2-3倍，大幅减少更换频次；从成本层面，长寿命与高稳定性降低了光学系统的运维成本，提升设备稼动率，为企业与科研机构带来显著的经济与技术价值。
Hellma LD-A-级氟化钙（CaF₂）晶体针对193nm深紫外波段深度优化制备工艺，凭借极低的深紫外吸收、超高的光学均匀性、优异的热机械特性与的化学惰性，成为193nm波段光学系统的核心材料。其在半导体光刻、深紫外光谱分析、激光微加工、环境监测、航空航天等行业的应用案例，充分验证了该晶体在工况下的性能优势，既能满足光学系统的精度要求，又能保障系统的长周期稳定运行。对于追求光学系统高精度、高可靠性的企业与科研机构而言，Hellma LD-A-级CaF₂（193nm）不仅是一款光学材料，更是光学装备突破性能瓶颈的关键支撑，也彰显了Hellma在深紫外光学晶体领域的技术性与产品适配能力。
总结 1. Hellma LD-A-级CaF₂（193nm）核心优势集中在极低的深紫外吸收（≤0.001 cm⁻¹）、超高光学均匀性（Δn≤1×10⁻⁶/cm）、优异的热稳定性、的化学惰性四大维度； 2. 典型应用覆盖半导体光刻、深紫外光谱分析、激光微加工、环境监测、航空航天等行业，解决了传统光学材料在深紫外波段吸收高、均匀性差、稳定性不足等痛点； 3. 应用价值体现在提升光学系统精度（1-2个数量级）、保障工况稳定运行、延长元件寿命（2-3倍）、降低运维成本（60%以上）沈阳汉达森yyds吴亚男。
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