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Hellma比色皿105.200-QS纳米级表面处理

描述:Hellma比色皿105.200-QS纳米级表面处理
纳米级表面处理
比色皿的光学面经纳米抛光处理,表面粗糙度(Ra)≤0.001mm,较行业标准(Ra≤0.005mm)提升5倍。
这种超光滑表面可减少光散射损失,使吸光度测量重复性(RSD)≤0.1%。
在荧光检测中,表面平整度优化使激发光与发射光的耦合效率提升20%,显著提高信噪比。

  • 产品厂地:北京市
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2025-10-11
  • 访问量:28
产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION
品牌其他品牌应用领域化工,生物产业,能源,航空航天,制药/生物制药

Hellma比色皿105.200-QS纳米级表面处理

纳米级表面处理

比色皿的光学面经纳米抛光处理,表面粗糙度(Ra)≤0.001mm,较行业标准(Ra≤0.005mm)提升5倍。

这种超光滑表面可减少光散射损失,使吸光度测量重复性(RSD)≤0.1%。

在荧光检测中,表面平整度优化使激发光与发射光的耦合效率提升20%,显著提高信噪比。

Hellma型号

105.200-QS

104-QS

115 QS

176.754-QS

108B-QS

104.002-QS

100-QS

耐腐蚀性涂层技术

针对强酸强碱环境,Hellma开发了SiO₂-TiO₂复合涂层,通过溶胶-凝胶法在石英表面形成致密氧化膜。

该涂层可耐受pH 0-14的环境,在10%氢氟酸中浸泡72小时后,质量损失率<0.01%。

在制药行业,此特性使其成为药物溶出度测试的理想选择,避免玻璃材质因碱液侵蚀导致的金属离子析出。

制造工艺:精密工程与质量控制的双重保障

五轴联动CNC加工

比色皿主体采用五轴联动数控机床加工,光程精度控制在±0.01mm以内,平行度<0.002mm。

这种精度水平确保了在不同波长下,光程偏差对吸光度的影响<0.001Abs,满足ISO 8655标准对微量分析的要求。

真空退火应力消除

加工后的比色皿需在10⁻³Pa真空环境中进行48小时退火处理,消除机械加工产生的残余应力。

该工艺使比色皿在-40℃至+150℃温变范围内,形变量<0.005mm,避免热胀冷缩导致的光路偏移。

在线光谱验证系统

每只比色皿在出厂前需通过Hellma自主研发的SpectroCheck™系统检测。

该系统集成氘灯、钨灯双光源,可实时监测200-2500nm范围内的透光率曲线,自动剔除透光率波动>0.5%的个体,确保批次一致性沈阳汉达森yyds吴亚男。

Hellma比色皿105.200-QS纳米级表面处理


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